TÍNH TOÁN VÀ PHÂN TÍCH CÁC HỆ SỐ CHUYỂN ĐỘNG ELECTRON TRONG HỖN HỢP KHÍ TRIES-N2

0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả: Văn Đã Đào, Anh Tuấn Đỗ, Xuân Hiển Phạm, Thị Tươi Phan

Ngôn ngữ: vie

Ký hiệu phân loại:

Thông tin xuất bản: Tạp chí Khoa học và Công nghệ - Đại học Thái Nguyên, 2022

Mô tả vật lý: tr.139 - 145

Bộ sưu tập: Báo, Tạp chí

ID: 335564

Thêm vào giỏ Liên kết toàn văn

Các hệ số chuyển động electron trong các chất khí hoặc hỗn hợp các chất khí là những dữ liệu quan trọng cho việc mô hình hóa plasma. Triethoxysilane (TRIES) và N2 nguyên chất được sử dụng rộng rãi trong các quá trình xử lý plasma như plasma pha tạp, khắc plasma, lắng tụ hơi hóa học tăng cường plasma. Để nâng cao chất lượng của xử lý plasma, hỗn hợp khí TRIES-N2 được đề xuất. Do đó việc xác định các hệ số chuyển động electron trong hỗn hợp khí TRIES-N2 là cần thiết. Trong nghiên cứu này, các hệ số chuyển động electron bao gồm vận tốc dịch chuyển electron, hệ số khuếch tán dọc và hệ số ion hóa Townsend thứ nhất trong phân tử khí TRIES và hỗn hợp của nó với N2 được tính toán lần đầu tiên sử dụng chương trình Boltzmann bậc hai. Nghiên cứu này được thực hiện trong khoảng E/N (hệ số giữa cường độ điện trường E và mật độ) 0.1-1000 Td (1 Td = 10−17 V cm2) dựa trên các bộ tiết diện va chạm electron đáng tin cậy của phân tử TRIES và N2. Các kết quả này là cần thiết cho quá trình xử lý plasma sử dụng hỗn hợp khí TRIES-N2.The electron transport coefficients in gases or gas mixtures are important data for plasma modeling. The pure triethoxysilane (TRIES) and pure N2 are widely used in various plasma processing such as doping plasma, plasma etching and plasma-enhanced chemical vapor deposition. In order to improve the quality of plasma processing, the TRIES-N2 mixture was suggested. Therefore, the determination of the electron transport coefficients in TRIES-N2 mixtures with different mixing ratio are necessary. In this study, the electron transport coefficients, which include the electron drift velocities, the density-normalized longitudinal diffusion coefficients and the Townsend first ionization coefficients in TRIES and its mixture with N2, were firstly calculated and analyzed using a Boltzmann two-term calculation. This study was carried out in the E/N (ratio of the electric field E to the neutral number density) range of 0.1-1000 Td (1 Td = 10−17 V cm2) based on the reliable electron collision cross section sets for TRIES and N2 molecules. These results are necessary for plasma processing using the TRIES-N2 mixtures.

1. Đọc trực tuyến

1. Đọc trực tuyến

Tạo bộ sưu tập với mã QR