KHẢO SÁT TỈ LỆ ÔXY TÁC ĐỘNG ĐẾN SỰ CHUYỂN PHA CẤU TRÚC VÀ CÁC TÍNH CHẤTMÀNG LOẠI p-SnOX:Na ĐƯỢC CHẾ TẠO BỞI PHƯƠNG PHÁP PHÚN XẠ PHẢN ỨNG MAGNETRON DC

 0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả: Trung Hiếu Bùi, Văn Thuần Đoàn, Thị Ánh Tuyết Dương, Sỹ Minh Tuấn Hoàng, Anh Tuấn Huỳnh, Thị Tươi Lê, Hoàng Long Ngô, Thị Kim Chung Nguyễn, Hoài Phương Phạm, Quang Trung Trần

Ngôn ngữ: vie

Ký hiệu phân loại:

Thông tin xuất bản: Tạp chí Khoa học - Trường Đại học Sư phạm TP Hồ Chí Minh, 2023

Mô tả vật lý: tr.1131

Bộ sưu tập: Metadata

ID: 353770

Màng bán dẫn loại p-SnOx:Na được chế tạo bằng phương phún xạ phản ứng magnetron DC với bia hợp kim gồm thiếc và 3 at% natri với khí phản ứng ôxy. Tỉ lệ phần trăm khí riêng phần ôxy (O2) thay đổi từ 7%, 12 %, 20 % và 45% và nhiệt độ đế (Ts) không đổi (2000C) trong suốt quá trình phún xạ. Khi tỉ lệ ôxy thay đổi từ 7% đến 45% thì có sự chuyển pha cấu trúc màng SnOx:Na từ đa tinh thể SnO, đến vô định hình SnO, Sn3O4, SnO2 và đa tinh thể SnO2. Các đặc trưng của màng SnOx:Na được đánh giá thông qua phổ UV-Vis, giản đồ nhiễu xạ tia X (XRD), hiệu ứng Hall. Màng SnOx:Na loại p được ứng dụng vào chế tạo photodiode với cấu trúc n-i-p (FTO/n-nc-Si:H/a-Si:H/p-SnO/Cu), có tỉ số Ion/Ioff = 56.
Tạo bộ sưu tập với mã QR

THƯ VIỆN - TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ TP.HCM

ĐT: (028) 36225755 | Email: tt.thuvien@hutech.edu.vn

Copyright @2024 THƯ VIỆN HUTECH