Nghiên cứu chế tạo lớp phủ plasma Sic-cu thẩm thấu PTFE để chống ăn mòn cho thép

 0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả: Nguyễn Thị Phượng KS., Xuân Cường Ngô, PGS, Lê Thu Quý TS., Nguyễn Hà Tuấn TS., Nguyễn Tuấn Anh TS., Nguyễn Văn Tuấn TS.

Ngôn ngữ: vie

Ký hiệu phân loại: 621 Applied physics

Thông tin xuất bản: Cơ khí Việt Nam, 2021

Mô tả vật lý: 144-150

Bộ sưu tập: Metadata

ID: 430187

Bài báo này trình bày việc chế tạo lớp phủ SiC-Cu compozit trên nền thép C45 bằng kỹ thuật phun phủ plasma trong không khí hay dưới sự bảo vệ của khí Argon. Các thông số phun bao gồm (i) Tỷ lệ trộn bột phun 50SỈC 50 Cu, (ii) Tốc độ nạp bột 80g/min, (Ui) Tốc độ khí phun 200L/phút, (iv) Dòng điện hồ quang 380A, (v) Khoảng cách phun 50mm. Sau khi phun thì các lớp phủ compozit SiC-Cu được thẩm thấu của dung dịch huyền phù PTFE. Vi cấu trúc của các lớp phủ được phân tích bằng kính hiển vi điện tử quét (SEM). Thành phần các nguyên tố có trong lớp phủ được đánh giá bằng phổ tán xạ tia X theo năng lượng (EDS). Phổ tổng trở điện hóa được sử dụng để phân tích tính chất điện hóa của các lớp phủ. Các kết quả thu được chứng tỏ lớp phủ PTFE/SiC-Cu bảo vệ hiệu quả cho nền thép trong môi trường ăn mòn chứa 3,5 % NaCl.
Tạo bộ sưu tập với mã QR

THƯ VIỆN - TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ TP.HCM

ĐT: (028) 71010608 | Email: tt.thuvien@hutech.edu.vn

Copyright @2024 THƯ VIỆN HUTECH