Nghiên cứu sự phân bố của nguyên tử antimony trong màng Ge/Gi đồng pha tạp Sb và P sử dụng kỹ thuật chụp cắt lớp đầu dò nguyên tử

 0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả: Minh Anh Lương, Thị Kim Phượng Lương, Thị Dung Nguyễn, Thị Huyền Trịnh

Ngôn ngữ: vie

Ký hiệu phân loại: 541.2 Theoretical chemistry

Thông tin xuất bản: Tạp chí Khoa học và Công nghệ Đại học Duy Tân, 2021

Mô tả vật lý: 63-69

Bộ sưu tập: Metadata

ID: 432251

Cấu trúc vùng năng lượng của Ge có thể bị thay đổi nếu tạo ra một ứng suất căng và pha tạp điện tử trong màng Ge. Điều này làm cho khả năng phát quang của Ge được cải thiện đáng kể. Một cách tiếp cận mới để tăng nồng độ các nguyên tố pha tạp trong mạng nền Ge được đưa ra là kỹ thuật đồng pha tạp từ hai nguồn rắn GaP và Sb. Trong nghiên cứu này, sự phân bố của các nguyên tử P và Sb pha tạp trong màng Ge được tập trung khảo sát theo điều kiện xử lý nhiệt. Màng Ge được lắng đọng trên đế Si (100) bằng phương pháp epitaxy chùm phân tử MBE (Molecular Beam Epitaxy). Phép đo phổ nhiễu xạ điện tử phản xạ năng lượng cao RHEED (Reflection High Energy Electron Diffraction) và ảnh kính hiển vi điện tử truyền qua (TEM) được dùng để đánh giá chất lượng bề mặt của mẫu cũng như chất lượng tinh thể của màng Ge. Màng Ge được xử lý nhiệt sau khi tăng trưởng ở nhiệt độ 650oC trong vòng 60 giây để tạo ứng suất và kích hoạt điện tử pha tạp đồng thời cải thiện chất lượng tinh thể. Hiệu suất phát quang của màng Ge được đánh giá từ phép đo phổ huỳnh quang trong vùng hồng ngoại.Vị trí của các nguyên tử P và Sb được xây dựng lại nhờ kỹ thuật chụp cắt lớp đầu dò nguyên tử (APT).
Tạo bộ sưu tập với mã QR

THƯ VIỆN - TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ TP.HCM

ĐT: (028) 71010608 | Email: tt.thuvien@hutech.edu.vn

Copyright @2024 THƯ VIỆN HUTECH