Bài báo này sử dụng mô hình mô phỏng Particle-in-Cell để nghiên cứu về việc giảm tải dòng nhiệt cao tới bề mặt kim loại bằng bias điện áp. Dòng electron và ion được bơm liên tục vào hệ và bị hấp thụ hoàn toàn tại bề mặt kim loại. Kết quả mô phỏng chỉ ra rằng, bias điện áp làm giảm thông lượng của plasma tới về mặt kim loại. Nhiệt thông của electron giảm trong khi nhiệt thông của ion lại tăng lên khi sử dụng bias điện áp âm. Tùy vào mục đích sử dụng, chúng ta có thể tận dụng phương pháp bias này để áp dụng trong giảm dòng nhiệt cao tới bề mặt kim loại.Reduction of the high heat flux to the materials using electrical biasing is studied using the Particle-in-Cell simulation model. A flow of electrons and ions is injected into the simulation system and they are fully absorbed at the target. Based on the simulation results, we found that electrical biasing can reduce the particle flux to the materials. While electron heat flux is decreased, ion heat flux is raised by using electrical biasing method. Depending on the types of reduction, we can take the advantadges of the electrical biasing method in reducing the high heat flux to the materials