Nghiên cứu về ft và fmax trong si và si1-xgex dựa trên vật liệu đơn và đôi theo kênh của kép fets cho các ứng dụng rf

 0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả:

Ngôn ngữ: vie

Ký hiệu phân loại:

Thông tin xuất bản: Nanoscience and nanotechnology, 2016

Mô tả vật lý: 1-7

Bộ sưu tập: Metadata

ID: 487424

Tạo bộ sưu tập với mã QR

THƯ VIỆN - TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ TP.HCM

ĐT: (028) 71010608 | Email: tt.thuvien@hutech.edu.vn

Copyright @2024 THƯ VIỆN HUTECH