Về dạng biến thiên tuyến tính của thế màn chắn trong plasma ocp mật độ cao

 0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả: Xuân Hợi Đỗ, Thị Ngọc Lâm Trần

Ngôn ngữ: vie

Ký hiệu phân loại: 530.41 Solid-state physics

Thông tin xuất bản: Tạp chí Khoa học, 2011

Mô tả vật lý: 59-67

Bộ sưu tập: Metadata

ID: 621424

Based on the importance of the short range order effect of the plasmas OCP, which is expressed through the damped oscillations of the pair correlationfunction g(r), The authors carry out elaborate examinations of the location rmax as well as of the amplitude gmax of its first maximum for various values of the screening parameter and put forward for the first time the analytical formulae for these data. The linear variation of the screening potential for some interionic distance can be therefore explained thoroughly by considering the relation between this first maximum and the screening potential. Especially, using this accurate fit of gmax established for dense OCP plasmas, the article expand it to the region of weakly correlated ones and point out the value Tc of the correlation parameter for which there exists the onset of the short range order effect. This value is very close to ones proposed in other works.
Tạo bộ sưu tập với mã QR

THƯ VIỆN - TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ TP.HCM

ĐT: (028) 36225755 | Email: tt.thuvien@hutech.edu.vn

Copyright @2024 THƯ VIỆN HUTECH