Gradient aerosol chemical vapor deposition (GA-CVD) for vertically graded thin films of Mo

 0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả: Huda Salam Al-Jurani, Abraham Barde, Mark A Buckingham, Robert Cernik, David J Lewis, Brendan Ward-O'Brien

Ngôn ngữ: eng

Ký hiệu phân loại: 781.59 *Music reflecting other themes and subjects

Thông tin xuất bản: England : Chemical communications (Cambridge, England) , 2025

Mô tả vật lý:

Bộ sưu tập: NCBI

ID: 691632

We report the first gradient aerosol chemical vapor deposition approach to fabricate vertically graded Mo
Tạo bộ sưu tập với mã QR

THƯ VIỆN - TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ TP.HCM

ĐT: (028) 36225755 | Email: tt.thuvien@hutech.edu.vn

Copyright @2024 THƯ VIỆN HUTECH