Synthesis and Characterizations of a Nonalkyl Tin Oxo Cluster and its Application as High EUV Absorption Coefficient and Etch Resistant Inorganic Resist for EUV Lithography.

0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả: Jiyoung Bang, Kyuyoung Heo, Soyeong Heo, Hyun-Dam Jeong, Cheol-Min Kim, Geonhwa Kim, Ki-Jeong Kim, Minyeob Kim, Hee-Seon Lee, Sangsul Lee, Hyung-Bae Moon, Siwoo Noh, Hyeok Yun

Ngôn ngữ: eng

Ký hiệu phân loại: 781.235 *Attack and decay

Thông tin xuất bản: United States : Inorganic chemistry , 2025

Mô tả vật lý:

Bộ sưu tập: NCBI

ID: 717979

We introduce a novel nonalkyl tin oxo cluster, CNU-TOC-01(4C-C), synthesized through a reflux-based solution reaction using SnCl

Tạo bộ sưu tập với mã QR