Edge-induced selective etching of bilayer MoS

0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả: Dechao Geng, Yang Guo, Lin Li, Weijie Ma, Yajing Sun, Qing Zhang, Jie Zhu

Ngôn ngữ: eng

Ký hiệu phân loại:

Thông tin xuất bản: England : Nanoscale horizons , 2025

Mô tả vật lý:

Bộ sưu tập: NCBI

ID: 726075

Thêm vào giỏ Liên kết toàn văn

The controllable preparation of edge arrangements, particularly the customization of zigzag edges on demand, remains elusive. Here, a selective etching strategy to directly regulate Mo-zigzag and S-zigzag edges of MoS

Tạo bộ sưu tập với mã QR