Super-resolution direct laser writing via multiphoton and peripheral photoinhibition photolithography.

 0 Người đánh giá. Xếp hạng trung bình 0

Tác giả: Cuifang Kuang, Qiulan Liu, Xi Liu, Xu Liu, Mengdi Luo, Liang Xu

Ngôn ngữ: eng

Ký hiệu phân loại:

Thông tin xuất bản: United States : Optics letters , 2025

Mô tả vật lý:

Bộ sưu tập: NCBI

ID: 728463

Direct laser writing (DLW) with high resolution is highly desirable for fabricating arbitrary two-dimensional/three-dimensional (2D/3D) micro-/nanostructures with fine feature size for various applications. In this work, by a quasi-single-color (532 nm) dual-beam optical setup, a 100-nm lateral resolution has been achieved by both multiphoton DLW and PPI-DLW (DLW with peripheral photoinhibition), using a photoresist with a depletable photoinitiator and a radical quencher. A 120-nm lateral resolution can also be obtained even at a fast writing speed of 1000 µm/s. Typical 3D woodpiles with lateral rod spacing ranging from
Tạo bộ sưu tập với mã QR

THƯ VIỆN - TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ TP.HCM

ĐT: (028) 36225755 | Email: tt.thuvien@hutech.edu.vn

Copyright @2024 THƯ VIỆN HUTECH